离子注入机是高压小型加速器中的一种。它是由离子源得到所需要的离子，经过加速得到几百千电子伏能量的离子束流，用做半导体材料、大规模集成电路和器件的离子注入，还用于金属材料表面改性和制膜等。         离子注入机由离子源、离子引入和质量分析器、加速管、扫描系统和工艺腔组成，可以根据实际需要省去次要部位。离子源是离子注入机的主要部位，作用是把需要注入的元素气态粒子电离成离子，决定要注入离子的种类和束流强度。离子源直流放电或高频放电产生的电子作为轰击粒子，当外来电子的能量高于原子的电离电位时，通过碰撞使元素发生电离。碰撞后除了原始电子外，还出现正电子和二次电子。正离子进入质量分析器选出需要的离子，再经过加速器获得较高能量，由四级透镜聚焦后进入靶室，进行离子注入。

        而在整个过程中，直流高压电源作为离子注入机的重要组成部分，其控制方式、工作频率、拓扑结构等的差异，都会对注入机系统运行效率和稳定性产生巨大的影响。离子注入机系统使用直流高压电源为离子加速系统提供能量，加速电压通常在5kV-400kV 之间，离子束电流强度小于50mA。

        其高压源的准确度就起到了至关重要的作用，而验证该高压源的准确度就需要用到高精准度的分压探棒进行验证与校准，为此我们为您推荐美国Ross Engineering研制的高准确度VMP高压探棒，由于高压爬距与绝缘距离的考量，普通传统型分压器需要一定的高度并配备占地面积较大的均压环，在本应用中非常难于接线及测量。而与传统分压器不同的是，Ross VMP分压棒专用于离子注入机高压源测量，可通过手持方式进行高压测量，并且准确度可达0.1%DC。

VMP系列分压探棒选型表

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